苯丙酸诺龙合成中C3位的保护及其影响因素

• 作者: 张承华 朱伟庆
• 来源期刊: 上海医药
• 学科: 医学
• 年，卷（期）: 2001,（10）
• 所属期刊栏目: 制药技术
• 页码范围: 469-470
• 页数: 2页
• 分类号: R9
• 字数: 1739字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-1533.2001.10.017

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱伟庆		2	1	1.0	1.0
2	张承华		1	0	0.0	0.0