六甲基二硅胺烷对气相法白炭黑的表面改性

• 作者: 康春雷 方图南 李春忠 杨化桂 汪齐方 王志庭
• 来源期刊: 华东理工大学学报(自然科学版)
• 学科: 化学
• 关键词: 气相法白炭黑 六甲基二硅胺烷 表面改性 表面羟基
• 年，卷（期）: 2001,（6）
• 页码范围: 626-630
• 页数: 5页
• 分类号: O631.3
• 字数: 1866字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3080.2001.06.011

摘要

在流化床反应器中,利用六甲基二硅胺烷(HMDS)对气相法制备的纳米二氧化硅进行了表面包覆,研究了包覆温度、包覆时间、HMDS分压等对纳米二氧化硅表面羟基、含碳量、pH值的影响,分析了表面包覆后气相法白炭黑的形态与结构.结果表明气相法白炭黑表面包覆HMDS后 ,团聚状态得到明显改善;随着处理时间的延长,温度的升高以及HMDS分压的升高,经表面处理后的白炭黑的pH值和含碳量增加,表面羟基数明显减少.反应时间小于15min时,包覆速率较快,然后趋于平缓;反应温度小于250°C时,温度对包覆效果影响较大,温度大于400 °C则影响较小;HMDS分压较低时,分压对包覆效果影响较大,当分压超过7.9kPa,则影响甚微.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李春忠	华东理工大学超细材料制备与应用教育部重点实验室	126	1963	22.0	39.0
2	汪齐方	华东理工大学超细材料制备与应用教育部重点实验室	3	93	3.0	3.0
3	杨化桂	华东理工大学超细材料制备与应用教育部重点实验室	9	106	5.0	9.0
4	方图南	华东理工大学超细材料制备与应用教育部重点实验室	12	341	7.0	12.0
5	康春雷	华东理工大学超细材料制备与应用教育部重点实验室	2	87	2.0	2.0
6	王志庭		2	87	2.0	2.0