六甲基二硅胺烷对纳米二氧化硅表面改性的研究

• 作者: 伍林 易德莲 曹淑超 李欢 欧阳兆辉 秦晓蓉
• 来源期刊: 中国粉体技术
• 关键词: 二氧化硅 表面改性 六甲基二硅胺烷
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 分级和改性
• 页码范围: 116-118
• 页数: 3页
• 分类号: TQ0
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-5548.2004.z1.028

摘要

以六甲基二硅胺烷(HMDS)为改性剂,氮气为保护气,对纳米二氧化硅表面进行改性研究,并通过粘度测定、红外光谱分析等手段对改性的效果进行评价.结果显示,在本实验所考察的范围内,反应温度为100℃,偶联剂用量为12mL时,改性效果最好.