Nb,Mo,Ti,Ta,W掺杂硅化石墨扫描电镜研究

• 作者: 曹宏 杨蜜纯 葛学贵 陈亦凡 靳化才 黄少云
• 来源期刊: 地质科技情报
• 学科: 地球科学
• 关键词: Nb,Mo,Ti,Ta,W掺杂 硅化石墨 扫描电子显微镜(SEM)
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 77-82
• 页数: 6页
• 分类号: P619.252
• 字数: 4669字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-7849.2001.04.016

摘要

以硅粉的1%,2%～10%(wB)将Nb,Mo,Ti,Ta,W等5种金属粉掺入硅粉中,用液硅渗透法(LSP)制备出系列掺杂硅化石墨样品.对这些样品抗折、抗拉强度测试结果表明:Nb(6%)-硅化石墨性能最优,抗拉强度提高了20%～27%;Mo(1%)、Mo(5%)掺杂效果次之;而Ti(7%)、Ta(3%)、W(7%)等的掺杂反使材料强度降低.扫描电子显微镜(SEM)分析显示:Nb(6%)掺杂使抗拉强度增强的原因在于,新的铌与碳的间隙化合物相的生成,减小了硅化石墨显微结构的尺寸,且使材料外层及内核结构均匀、致密、统一 ,因而能有效分散应力集中,缓冲裂纹扩张,增大承载截面,从而提高材料力学性能.相反 Ti(7%)、Ta(3%)等掺杂后,尽管使材料外层结构致密,但内部结构疏松,晶粒、孔隙尺寸大小不一,形态各异,内、外结构极不统一,导致材料性能下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	葛学贵	中国地质大学材料科学与化学工程学院	19	351	10.0	18.0
2	黄少云		22	236	9.0	15.0
3	曹宏	中国地质大学材料科学与化学工程学院	3	2	1.0	1.0
4	陈亦凡	中国地质大学材料科学与化学工程学院	9	144	4.0	9.0
5	靳化才	中国地质大学材料科学与化学工程学院	8	135	3.0	8.0
6	杨蜜纯	中国地质大学材料科学与化学工程学院	2	35	1.0	2.0