γ－氯丙基三乙氧基硅烷及其杂质的GC－ITD分析

• 作者: 何其坚 杨泽玉
• 来源期刊: 有机硅材料
• 学科: 工学
• 关键词: γ－氯丙基三乙氧基硅烷 气相色谱－离子阱检测 质谱 三氯硅烷 氯丙烯
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 分析.测试
• 页码范围: 17-20,10
• 页数: 5页
• 分类号: TQ26
• 字数: 2956字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-4369.2001.03.005

摘要

采用气相色谱－离子阱检测方法对工业级γ－氯丙基三乙氧基硅烷所含主要杂质进行了鉴定，其结果表明，该产品中含有四乙氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、γ－氯丙基二乙氧基氯硅烷、γ－氯丙基五乙氧基二硅氧烷，1－丙基－3－(γ－氯丙基)－1，1，3，3，－四乙氧基二硅氧烷，1，3－二(γ－氯丙基)－1，1，3，3－四乙氧基二硅氧烷，1，3－二(γ－氯丙基)－1，1，3－三乙氧基－3－羟基二硅氧烷等杂质。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何其坚		1	4	1.0	1.0
2	杨泽玉		1	4	1.0	1.0