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摘要:
采用微波等离子体化学气相沉积法在硬质合金基体上制备金刚石薄膜.研究了铜过渡层和酸蚀脱钴两种基体前处理工艺以及在施加铜过渡层的情况下,不同的沉积气压和基片温度对金刚石薄膜的质量的影响.结果表明:在施加铜过渡层后,在适中的沉积条件下(沉积气压6.0 kPa,基片温度约为780℃)可得到质量较好的金刚石薄膜.
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文献信息
篇名 WC-Co硬质合金上高质量金刚石薄膜的制备
来源期刊 武汉化工学院学报 学科 物理学
关键词 金刚石薄膜 硬质合金 薄膜质量
年,卷(期) 2001,(2) 所属期刊栏目 材料科学与工程
研究方向 页码范围 44-46
页数 4页 分类号 O539|O484|5
字数 2367字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1674-2869.2001.02.013
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 邬钦崇 中国科学院等离子体物理研究所 18 105 7.0 9.0
2 汪建华 武汉化工学院材料科学与工程系 57 613 12.0 20.0
3 马志斌 武汉化工学院材料科学与工程系 24 335 9.0 17.0
7 王传新 武汉化工学院材料科学与工程系 15 326 7.0 15.0
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研究主题发展历程
节点文献
金刚石薄膜
硬质合金
薄膜质量
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双月刊
1674-2869
42-1779/TQ
大16开
武汉市江夏区流芳大道特1号,武汉工程大学流芳校区,西北区1号楼504学报编辑部收
1979
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