二氧化硅厚膜材料的快速生长及其致密化处理

• 作者: 余永森 刘国范 卓仲畅 吴远大 张玉书 邢华 郑伟
• 来源期刊: 吉林大学自然科学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 火焰水解法(FHD) 高温致密化 玻璃态SiO2
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 页码范围: 53-56
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.05
• 字数: 2090字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-5489.2001.04.010

摘要

采用火焰水解法(FHD)在Si片上快速淀积出SiO2厚膜材料,材料膜厚40μm以上,生长速率8μm/min.将该材料分别在真空中和空气中高温致密化处理,获得各种形态的二氧化硅厚膜材料.利用XRD,SEM,电子显微镜等仪器对SiO2膜的表面和膜厚进行测试分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邢华	吉林大学电子科学与工程学院	29	128	7.0	10.0
2	郑伟	吉林大学电子科学与工程学院	37	290	10.0	15.0
3	张玉书	吉林大学电子科学与工程学院	20	190	7.0	13.0
4	刘国范	吉林大学电子科学与工程学院	14	57	5.0	7.0
5	吴远大	吉林大学电子科学与工程学院	10	60	4.0	7.0
6	卓仲畅	吉林大学电子科学与工程学院	12	73	5.0	8.0
7	余永森	吉林大学电子科学与工程学院	1	7	1.0	1.0