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真空冶金技术的现状与发展
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摘要：
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真空镀膜技术的现状及发展
真空镀膜技术
物理气相沉积法
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溅射镀膜
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有色冶金技术的现状与发展探讨
有色冶金技术
现状
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期刊影响力
真空与低温
主办单位：
中国航天科技集团公司第五研究院510研究所
出版周期：
双月刊
ISSN：
1006-7086
CN：
62-1125/O4
开本：
大16开
出版地：
甘肃省兰州市94信箱
邮发代号：
创刊时间：
1981
语种：
chi
出版文献量（篇）
1321
总下载数（次）
1
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