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摘要:
本文从实验和理论上对电场展开铁电液晶螺旋结构的过程进行了全面的观察和研究。实验发现在不同频率下电场展开螺旋结构的过程有着很大的差异。我们在0~120kHz范围内测量了展开过程的弯曲阈值、畸变阈值和临界场;同时根据电场展开时织构的变化将频率范围分成七个频区分别进行了讨论,其中特别研究了所出现的菱形网格图案和λ图案,并以近晶层弯折和扭曲的模型解释了这些图案的形成。
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文献信息
篇名 铁电液晶在电场作用下螺旋结构变化的观察
来源期刊 浙江大学学报(理学版) 学科 工学
关键词 铁电液晶 螺旋结构 交变电场 近晶层
年,卷(期) 2001,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 154-159
页数 6页 分类号 TN104.3|Q753.2
字数 2698字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1008-9497.2001.02.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈偕雄 浙江大学信息与电子工程学系 139 691 12.0 17.0
2 唐金花 金华职业技术学院电子工程系 41 153 7.0 9.0
3 王志恒 南京大学物理系 2 2 1.0 1.0
传播情况
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1984(1)
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2001(1)
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2007(1)
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研究主题发展历程
节点文献
铁电液晶
螺旋结构
交变电场
近晶层
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
浙江大学学报(理学版)
双月刊
1008-9497
33-1246/N
大16开
杭州市天目山路148号浙江大学
32-36
1956
chi
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3051
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24460
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