影响化学镀铜溶液稳定性和沉铜速率的因素

• 作者: 赵转青 赵黎云 钟丽萍 黄逢春
• 来源期刊: 山西大学学报(自然科学版)
• 学科: 化学
• 关键词: 化学镀铜 镀速 稳定性
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 页码范围: 145-147
• 页数: 3页
• 分类号: O646
• 字数: 2470字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0253-2395.2001.02.017

摘要

研究了影响化学镀铜镀速和溶液稳定性的各因素,根据实验确定了适宜的化学镀铜液的配方及工艺规范.该镀液稳定性高,沉铜速率2.5μm/20min～3μm/20min.镀层延展性好,平整、外观良好,可用于印制线路板的孔金属化及其它塑料电镀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄逢春	山西大学化学系	8	99	6.0	8.0
2	钟丽萍	山西大学化学系	3	57	3.0	3.0
3	赵黎云	山西大学化学系	2	30	2.0	2.0
4	赵转青	山西大学化学系	2	40	2.0	2.0