超高密度光存储技术的现状和今后的发展

• 作者: 张培琨 金国藩
• 来源期刊: 中国计量学院学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光存储 体全息 近场光学 双光子
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 所属期刊栏目: 特邀报告
• 页码范围: 6-12,15
• 页数: 8页
• 分类号: TN29|O438
• 字数: 6739字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1540.2001.02.003

摘要

文章综述了光存储领域的研究进展，主要包括体全息存储、近场光学存储和双光子双稳态存储技术。在介绍各种存储技术发展现状的同时，分析了各自的优势和存在的问题。从整个光存储学科发展的角度给出了未来的趋势。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金国藩	清华大学精仪系光电工程研究所	134	1085	20.0	25.0
2	张培琨	清华大学精仪系光电工程研究所	3	54	3.0	3.0