Cu-P-SiO2(CeO2)纳米复合化学镀层制备初探

• 作者: 李小华 薛蒙伟 马美华
• 来源期刊: 化工时刊
• 关键词: 纳米复合化学镀 Cu-P-SiO2 Cu-P-CeO2 工艺
• 年，卷（期）: 2001,（9）
• 所属期刊栏目: 科技进展
• 页码范围: 18-21
• 页数: 4页
• 字数: 1935字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-154X.2001.09.005

摘要

研究了主盐、配合剂、纳米微粒浓度以及温度、pH值、施镀时间对A3钢片表面纳米复合化学镀层沉积速率的影响.从而得到沉积速率快、镀液使用寿命长的Cu-P-SiO2(CeO2)纳米复合化学镀工艺.所得镀层厚度在19.5～20.5μm之间,表面致密光亮,空隙率低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马美华	南京晓庄学院化学系	35	219	10.0	13.0
2	李小华	南京晓庄学院化学系	33	265	10.0	14.0
3	薛蒙伟	南京晓庄学院化学系	56	260	10.0	13.0