门级工艺映射中显式冗余的优化

• 作者: 刘明业 王作建
• 来源期刊: 计算机辅助设计与图形学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 工艺映射 高级综合 显式冗余 面积优化
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 电子设计自动化
• 页码范围: 19-23
• 页数: 5页
• 分类号: TP312
• 字数: 5053字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1003-9775.2001.01.004

摘要

高级综合结果中常量元件和输出悬空端口导致门级工艺映射结果中存在显式冗余.显式冗余无助于提高电路性能，反而增加功耗，降低电路的可测试性，使电路面积增大，应予消除.文中提出了显式冗余的队列循环优化算法，完全消除了此类冗余，从而有效地减少了生成电路的基片面积，提高了电路的可测试性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘明业	北京理工大学ASIC研究所	63	561	13.0	19.0
2	王作建	北京理工大学ASIC研究所	3	0	0.0	0.0