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摘要:
【正】 Y2000-62422-84 0103519部分耗尽绝缘体上硅 MOS 场效应晶体管动态旁路漏电流形成机制=Mechanisms of dynamic pass Leakagecurrent in partially depleted SOI MOSFETs[会,英]/Saraya,T.& Hiramoto,T.//1999 IEEE InternationalSOI Conference Proceedings.—84~85(EC)
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文献信息
篇名 失效物理
来源期刊 电子科技文摘 学科 工学
关键词 失效物理 场效应晶体管 绝缘体上硅 形成机制 旁路漏电 部分耗尽 环境试验 可靠性物理 电子产品可靠性 可维护性
年,卷(期) 2001,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 3-3
页数 1页 分类号 TN
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失效物理
场效应晶体管
绝缘体上硅
形成机制
旁路漏电
部分耗尽
环境试验
可靠性物理
电子产品可靠性
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研究起点
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子科技文摘
月刊
1009-0851
11-4388/TN
16开
1999
chi
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10413
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1
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71
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