对磁流变抛光技术中磁场的分析

• 作者: 余景池 张学军 张峰 谭庆昌
• 来源期刊: 仪器仪表学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光 磁流变抛光液 标量磁位 磁偶极子
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 42-44,48
• 页数: 4页
• 分类号: TH7
• 字数: 2632字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0254-3087.2001.01.012

摘要

本文对磁流变抛光(magnetorheological finishing)过程中所采用的梯度磁场，以及磁流变抛光液(MRP fluid)中的磁性颗粒在磁场中的受力情况进行了分析，进而证明了该磁场满足磁流变抛光的要求。最后以实验对其进行了验证。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张峰		149	3496	30.0	56.0
2	张学军		124	1634	25.0	33.0
3	余景池		10	179	8.0	10.0
4	谭庆昌	吉林工业大学机械零件教研室	1	30	1.0	1.0