碳化硼陶瓷磨损特性的点接触显微镜研究

• 作者: 吴芳 王零森
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: 碳化硼 纳米摩擦 磨损深度 预氧化
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 理论探讨
• 页码范围: 165-169
• 页数: 5页
• 分类号: TQ174
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-0224.2002.03.001

摘要

用点接触显微镜在纳米尺度上研究了碳化硼材料的磨损特性,考察了未经顸氯化和经1 073 K预氧化处理1 h的2种热压碳化硼试样磨损深度随载荷、磨损次数、扫描速度等的变化情况.研究结果表明,未经预氧化的碳化硼试样,磨损深度很小,而经过预氧化处理的碳化硼试样,磨损深度远远大于未经氧化的试样.两者的磨损深度均随载荷的增加而显著增加.未经氧化的碳化硼试样由于其纵向上的结构是均匀的,磨损深度随磨损次数的增加呈线性增加;经氧化处理的碳化硼试样的磨损深度随磨损次数的增加呈现2段线性关系,可推断其表层的H3BO3膜厚度约为120～140nm.2种试样的磨损深度与扫描速度均无明显关系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴芳	五邑大学化学与环境工程系	11	307	6.0	11.0
2	王零森		5	40	4.0	5.0