硼膜多步骤注N的镀层结构研究

• 作者: 唐云 张平 蔡志海 谭俊
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 离子注入 氮化硼 结构
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 25-27
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 1747字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-9289.2002.04.005

摘要

用离子束溅射硼靶,在W6Mo5Cr4V2钢上沉积一层硼膜,再用反冲注入法注氮以形成氮化硼(BN),注入时采用逐次递减能量(即50 keV,30 keV,10 keV)的多步骤注入.用XPS分析膜的成分深度分布及元素的化学价态;用傅立叶红外(FTIR)反射谱分析膜的结构,结果表明:膜基界面产生混合,与用单一能量注入相比,多步骤注入时,膜层的N/B分布比较均匀;硼在膜中以BN形式存在,膜深度较大处为a-BN或h-BN,并且随着深度的降低,膜有向c-BN转化的趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张平	装甲兵工程学院材料科学与工程系	83	816	13.0	24.0
2	蔡志海	装甲兵工程学院材料科学与工程系	46	275	10.0	12.0
3	唐云	装甲兵工程学院材料科学与工程系	4	15	2.0	3.0
4	谭俊	装甲兵工程学院材料科学与工程系	49	427	9.0	19.0