用氟硅酸和碳铵制高纯二氧化硅的新工艺

• 作者: 刘晓红 刘晓萍 刘燕燕 卢爱军
• 来源期刊: 应用化工
• 学科: 工学
• 关键词: 高纯SiO2 氟硅酸 碳铵 新工艺
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 科研与开发
• 页码范围: 23-25
• 页数: 3页
• 分类号: TQ127.2
• 字数: 2398字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-3206.2002.06.008

摘要

由磷肥厂副产氟硅酸同碳铵反应得氟硅酸铵,再和碳铵反应生成SiO2沉淀,经过滤、水洗、干燥、煅烧得高纯SiO2,其金属杂质总含量小于10×10-6,含放射性元素铀和钍各小于10×10-9,通过实验获得了适宜的工艺条件,反应温度70 ℃～80 ℃,反应时间1.5 h～2.0 h,配料比n(NH4HCO3)∶n((NH4)2SiF6)=4.4.提出了一条由氟硅酸制高纯SiO2的新工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘晓红	南昌大学环境与化工学院	89	540	12.0	18.0
2	卢爱军	南昌大学环境与化工学院	34	195	9.0	12.0
3	刘燕燕	南昌大学环境与化工学院	36	224	10.0	13.0
4	刘晓萍	江西医学院校产处	6	40	4.0	6.0