金属间化合物二硅化钼在干摩擦条件下的磨粒磨损特性

• 作者: 刘心宇 唐果宁 张厚安 陈平
• 来源期刊: 机械工程材料
• 学科: 工学
• 关键词: 二硅化钼 磨粒磨损 磨损机理
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 21-22，41
• 页数: 3页
• 分类号: TG148|TG115.5+8
• 字数: 2129字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-3738.2002.05.007

摘要

在磨损试验机上考察了金属间化合物二硅化钼材料在干摩擦条件下与氧化铝砂轮对磨时的磨粒磨损性能,用扫描电镜和定点探针观察了其磨损表面形貌,并对材料的磨损机理进行了探讨.结果表明:MoSi2材料具有较高的耐磨性,质量磨损率维持在3.3×10-4mg/min水平;微切削和疲劳微断裂是其主要磨粒磨损机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈平	湘潭工学院机械工程及自动化系	14	145	8.0	11.0
2	唐果宁	湘潭工学院机械工程及自动化系	23	173	9.0	11.0
3	张厚安	湘潭工学院机械工程及自动化系	26	231	9.0	12.0
5	刘心宇	中南大学材料科学工程系	224	1450	18.0	23.0