SiGe合金氧化层中的纳米结构

• 作者: 刘世荣 蔡绍洪 黄伟其 龙超云
• 来源期刊: 贵州大学学报(自然科学版)
• 学科: 化学
• 关键词: 纳米团簇 纳米层 硅锗合金
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 专题研究
• 页码范围: 202-208
• 页数: 7页
• 分类号: O61.46.+w|O68.65.-k
• 字数: 3275字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5269.2002.03.004

摘要

在硅锗合金衬底上采用氧化等制膜方式生成零维和二维的纳米结构样品,用高精度椭偏仪(HPE)、卢瑟福背散射谱仪(RBS)和高分辨率扫描透射电子显微镜(HR-STEM)测量样品的纳米结构,并采用美国威思康新州立大学开发的Rump模拟软件对卢瑟福背散射谱(RBS)中的CHANNEL谱和RANDOM谱分别进行精细结构模拟,测量并计算出纳米氧化层与锗的纳米薄膜结构分布,并且反馈控制加工过程,优化硅锗半导体材料纳米结构样品的加工条件.在硅锗合金的氧化层表面中首次发现纳米锗量子点组成的纳米盖帽薄膜(2nm),提出的生成硅锗纳米结构的优化加工条件的氧化时间和氧化温度匹配公式的理论模型与实验结果拟合得很好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蔡绍洪	贵州大学物理系	74	407	11.0	16.0
2	龙超云	贵州大学物理系	37	118	5.0	9.0
3	刘世荣	中科院地化所电镜室	7	12	2.0	3.0
4	黄伟其	贵州教育学院物理系	23	43	4.0	5.0