放电等离子体中XeI准分子的形成过程

• 作者: 傅广生 张连水 李晓苇 董丽芳 赵晓辉 韩理
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 准分子 直流辉光放电 荧光发射谱 电子温度
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 激光物理与激光化学
• 页码范围: 332-334
• 页数: 3页
• 分类号: TN248.2+2
• 字数: 1600字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2002.04.011

摘要

研究了Xe/I2混合气体(气压70～1330 Pa)在直流辉光放电情况下XeI准分子的形成过程,得到了XeI准分子在240～270 nm波长范围内的荧光发射谱.并对XeI(B→X)跃迁谱线强度随混合气体压力的变化进行了实验研究,发现气压为333 Pa时荧光最强;此条件下,放电等离子体的电子温度为13.2 eV,表明低气压放电等离子体中主要反应通道为快电子碰撞Xe使其跃迁至3P,随之与I2碰撞形成XeI(A,B,C).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李晓苇	河北大学物理科学与技术学院	136	473	10.0	13.0
2	韩理	河北大学物理科学与技术学院	39	204	8.0	11.0
3	傅广生	河北大学物理科学与技术学院	184	817	13.0	17.0
4	董丽芳	河北大学物理科学与技术学院	183	836	17.0	22.0
5	张连水	河北大学物理科学与技术学院	86	284	9.0	12.0
6	赵晓辉	河北大学物理科学与技术学院	41	76	5.0	5.0