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A TEM Study of Microstructures in Chlorine-implanted Silicon
A TEM Study of Microstructures in Chlorine-implanted Silicon
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文献信息
| 篇名 | A TEM Study of Microstructures in Chlorine-implanted Silicon | ||
| 来源期刊 | 近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报：英文版 | 学科 | 化学 |
| 关键词 | 透射电镜研究 氯离子注入 硅 显微结构 TEM EDS光谱 核物理实验 | ||
| 年，卷（期） | 2002,（1） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 59-60 | |
| 页数 | 2页 | 分类号 | O613.72 |
| 字数 | 语种 | 中文 | |
| DOI | |||
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透射电镜研究
氯离子注入
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期刊影响力
近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报：英文版
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年刊
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出版地：
兰州31号信箱中国科学院近代物理研究所出版发行社社址:北京市海淀区阜成路43号(100037)
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出版文献量（篇）
1640
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