卤代烷类化合物紫外光解离过程的研究

• 作者: 侯惠奇 张仁熙 朱杰 潘循皙
• 来源期刊: 复旦学报(自然科学版)
• 学科: 化学
• 关键词: 卤代烷类化合物 紫外光 光解离 臭氧损耗
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 页码范围: 356-360
• 页数: 5页
• 分类号: O611.4
• 字数: 4027字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0427-7104.2002.04.002

摘要

探讨了在185,253.7,337.1 nm的条件下,卤代烷类化合物CH3Br、CH2Br2、CF2ClBr、CF3Br、CF2HCl、CF3Cl的光解离机理,对CH3Br+O2/O3、CH2Br2+O2/O3、CF2ClBr+O2/O3、CF3Br+O2/O3、CF2HCl+O2/O3、CF3Cl+O2/O3等体系的光化学反应过程及其产物进行了分析,重点讨论了含F卤代烷光氧化的共同产物CF2O的产生机理和它的稳定性,并探讨了控制卤代烷类化合物损耗臭氧层的途径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	潘循皙	复旦大学环境科学研究所	32	332	11.0	17.0
2	侯惠奇	复旦大学环境科学研究所	107	1253	20.0	30.0
3	张仁熙	复旦大学环境科学研究所	48	481	13.0	20.0
4	朱杰	复旦大学环境科学研究所	13	68	4.0	8.0