PREVAIL--下一代电子束投影曝光技术

• 作者: 刘明 张卫红 张建宏 李友 王云翔 陈宝钦
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: PREVAIL 电子束投影曝光
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 综述报告
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2327字
• 语种: 中文

摘要

PREVAIL作为下一代电子束投影曝光技术,采用可变轴浸没透镜,对以硅为支架的碳化硅薄膜进行投影微缩曝光.在1mm2子场的情况下,运用步进扫描曝光方式,在100nm临界尺寸下具有较高的产量,与EUVL技术一起成为下一代曝光技术的有力竞争者.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘明	中国科学院微电子中心光掩模实验室	207	1983	20.0	38.0
2	陈宝钦	中国科学院微电子中心光掩模实验室	50	361	11.0	16.0
3	王云翔	中国科学院微电子中心光掩模实验室	8	36	5.0	5.0
4	张建宏	中国科学院微电子中心光掩模实验室	5	56	3.0	5.0
5	李友	中国科学院微电子中心光掩模实验室	4	50	2.0	4.0
6	张卫红	中国科学院微电子中心光掩模实验室	3	5	1.0	2.0