弛豫对低场下的薄膜磁致伸缩性能影响模型

• 作者: 刘希从 斯永敏 谢海涛 马青松
• 来源期刊: 材料科学与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 超磁致伸缩 薄膜 非晶态 弛豫
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 396-398,409
• 页数: 4页
• 分类号: TM271
• 字数: 3349字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2002.03.023

摘要

基于非晶合金结构微缺陷的Egami模型,本文提出了一个弛豫影响低场下的磁致伸缩性能模型.在此模型中,低磁场下的磁化和磁致伸缩乃是180°磁畴旋转的结果,而180°磁畴的壁移磁化过程将被非晶的结构微缺陷所钉扎,而在较高磁场情况下,不产生磁致伸缩的壁移磁化过程被启动.退火过程将发生非晶相的结构弛豫,使非晶相内由结构缺陷产生的应力降低,从而导致低磁场下的磁致伸缩得以提高.此模型可以很好地解释各工艺状态的Tb0.27Dy0.73Fe2薄膜低场下的磁致伸缩行为.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢海涛	国防科技大学材料与应用化学系	5	54	4.0	5.0
2	斯永敏	国防科技大学材料与应用化学系	28	191	10.0	12.0
3	马青松	国防科技大学材料与应用化学系	63	552	12.0	20.0
4	刘希从	国防科技大学材料与应用化学系	11	214	8.0	11.0