有机蒙脱土的制备及其结构表征

• 作者: 刘吉平 朱湛 王珂 郭炳南
• 来源期刊: 北京理工大学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 有机蒙脱土 插层 层间距
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 化工与材料科学
• 页码范围: 240-243
• 页数: 4页
• 分类号: O657
• 字数: 2697字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-0645.2002.02.029

摘要

为增加蒙脱土与有机相的相容性,制备有机蒙脱土,并观察蒙脱土的层状结构在有机化前后的变化.以钠基蒙脱土为原料,用季铵盐、有机胺和复合试剂作为有机插层剂与蒙脱土层间的Na+交换,制备出一系列有机蒙脱土,并对其结构进行表征.FTIR证明有机插层剂已进入蒙脱土的层间.XRD结果表明蒙脱土的层间距由1.2 nm增加到1.7～4.2 nm.TEM观察也表明蒙脱土的层间距增大,粒层厚度约为50 nm左右.研究结果表明选择高交换容量的钠基蒙脱土和合适的插层剂,制备的有机蒙脱土层间距增加明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘吉平	北京理工大学化工与材料学院	131	1587	22.0	35.0
2	王珂	北京理工大学化工与材料学院	13	274	7.0	13.0
3	郭炳南	北京理工大学化工与材料学院	26	436	11.0	20.0
4	朱湛	北京理工大学化工与材料学院	14	186	4.0	13.0