CVDZnS热等静压(HIP)前后光学性能和显微结构的研究

• 作者: 余怀之 宋睿丰 霍承松
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: CVDZnS 热等静压 光学透过率 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 简报
• 页码范围: 872-876
• 页数: 5页
• 分类号: TB303
• 字数: 1930字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2002.04.039

摘要

采用红外、紫外光谱仪对热等静压(HIP)处理前后CVDZnS的光学透过率进行了测量,采用分析电子显微镜、金相显微镜和X射线衍射对原生CVDZnS和经热等静压(HIP)处理的CVDZnS的显微组织和晶体结构进行了分析.根据热等静压(HIP)处理前后CVDZnS光学透过率和材料内部显微结构的不同分析了热等静压过程造成CVDZnS光学性能提高的原因.研究表明:热等静压过程使得CVDZnS的晶粒尺寸有了很大提高,并且消除了原生CVDZnS在生长过程中形成的晶体缺陷,从而减小了原生CVDZnS中由于晶格缺陷和晶粒边界造成的散射损失,使得CVDZnS的光学透过率,尤其是在可见光及近红外波段,有了较大的提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	余怀之		3	14	2.0	3.0
2	宋睿丰		2	6	2.0	2.0
3	霍承松		2	6	2.0	2.0