一种新的膜厚测试技术

• 作者: 孙艳 孙锋 杨玉孝 谭玉山
• 来源期刊: 计量技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光纤 干涉 频谱 光程差
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 测量与设备
• 页码范围: 6-9
• 页数: 4页
• 分类号: TH74
• 字数: 2519字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0771.2002.03.002

摘要

在"Y"型光纤一个端面上垂直放置涂有透明薄膜的基片,入射光在光纤-薄膜层-空气的界面处两次反射,由于两束反射光之间存在光程差,所以反射光发生干涉.不需要测量干涉条纹,仅通过对反射光谱的分析计算,可以测出薄膜的厚度以及折射率的数值.在单晶硅基片上做非晶的PSiO2膜的甩膜实验中使用该方法测试PSiO2膜的厚度,实验证明,该方法测量精度高、速度快,对薄膜无破坏作用.用卤素白光和红光的准单色光(600nm～860nm)作为光源,膜厚范围为0.5到几十微米,测量误差小于40nm.进行了实验验证,给出了对噪声的处理方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙艳	西安交通大学激光红外研究所	36	242	8.0	13.0
2	孙锋	西安交通大学激光红外研究所	2	12	1.0	2.0
3	杨玉孝	空军工程学院航空电子工程系	1	12	1.0	1.0
4	谭玉山	空军工程学院航空电子工程系	1	12	1.0	1.0