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以分子示踪测速法绘制流场
以分子示踪测速法绘制流场
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文献信息
篇名
以分子示踪测速法绘制流场
来源期刊
激光与光电子学进展
学科
关键词
年,卷(期)
2002,(7)
所属期刊栏目
光电子器件与技术
研究方向
页码范围
44-45
页数
2页
分类号
字数
2219字
语种
中文
DOI
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二级引证文献(0)
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相关学者/机构
期刊影响力
激光与光电子学进展
主办单位:
中国科学院上海光学精密机械研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1006-4125
CN:
31-1690/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市嘉定区清河路390号(上海市800-211信箱)
邮发代号:
4-179
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
9127
总下载数(次)
28
总被引数(次)
35767
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