硅单质法制备纳米SiO2及其分散稳定性研究

• 作者: 吴力立 庞金兴 张超灿 熊焰
• 来源期刊: 华中科技大学学报(自然科学版)
• 学科: 化学
• 关键词: 纳米粒子 原位生成 表面改性 粒径分布 分散稳定性
• 年，卷（期）: 2002,（8）
• 页码范围: 104-106，109
• 页数: 4页
• 分类号: O61
• 字数: 2897字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-4512.2002.08.036

摘要

以硅单质为主要原料,碱催化制备硅溶胶;在"原位生成"纳米SiO2的同时,采用"原位分散"和"原位表面改性"的方法,制备了粒度为8～15nm的SiO2水分散液.研究了反应时间、温度、介质pH值、分散剂和表面改性剂等因素对纳米粒子粒径、粒径分布及分散稳定性的影响;该制备方法简便易行,价格便宜,并有效解决了纳米SiO2在水相中的稳定分散问题,具有广阔的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张超灿	武汉理工大学应用化学系	118	1075	18.0	27.0
2	庞金兴	武汉理工大学应用化学系	14	374	10.0	14.0
3	吴力立	武汉理工大学应用化学系	39	353	12.0	18.0
4	熊焰	武汉理工大学应用化学系	17	327	10.0	17.0