真空蒸发、淀积、溅射、氧化与金属化工艺

• 来源期刊: 电子科技文摘
• 学科: 工学
• 关键词: 金属化 溅射方法 淀积 真空蒸发 TRENCH TEOS 四乙氧基硅烷 蒸发沉积 真空科学 光致变色
• 年，卷（期）: 2002,（12）
• 页码范围: 23-24
• 页数: 2页
• 分类号: TN305

摘要

【正】 Y2002-63234-117 0224666无空洞浅沟道隔离四乙氧基硅烷(TEOS)填料的脉冲压化学汽相淀积=Novel pulse pressure CVD for voidfree STI trench TEOS fill[会,英]/Nakamura,T.//2001 IEEE International Symposium on SemiconductorManufacturing.—117～120(E)0224667真空蒸发沉积18烷基取代螺吡喃薄膜的光致变色及光电子谱研究[刊]/季振国//真空科学与技术学报.—2002,22(4).—287～289(L)