基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱用于高分子端基修饰反应的监控

• 作者: 刘光祥 陈友存 陈文章
• 来源期刊: 分析化学
• 学科: 化学
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 来稿摘登
• 页码范围: 127-127
• 页数: 1页
• 分类号: O65
• 字数: 1624字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3820.2003.01.036

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘光祥	安庆师范学院化学系	44	105	6.0	7.0
2	陈友存	安庆师范学院化学系	83	512	12.0	19.0