电化学沉积DLC膜及其表征

• 作者: 徐洮 杨生荣 王博 阎兴斌
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 类金刚石碳膜 电化学沉积 Raman XAES
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 656-659
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 3560字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2003.05.008

摘要

采用电化学沉积方法,甲醇有机溶剂作碳源,在直流电源作用下在单晶硅表面沉积得到碳薄膜.薄膜不溶于苯、丙酮等有机溶剂,具有较高的硬度(16GPa左右),用AFM、Raman和FTIR分析手段对该薄膜表面形貌和结构进行表征,Raman和FTIR结果表明电化学沉积得到的是含氢的类金刚石碳薄膜.通过研究样品薄膜的XPS和XAES谱图特征,进一步证实薄膜是DLC薄膜,并用线性插入法估算出样品薄膜中SP3的相对含量为60%,同时推测了电化学沉积DLC薄膜的生长机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	阎兴斌	中科院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	2	33	2.0	2.0
2	徐洮	中科院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	2	33	2.0	2.0
3	王博	中科院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	2	33	2.0	2.0
4	杨生荣	中科院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	9	83	5.0	9.0