利用光密度曲线模型研究CD -R染料旋涂工艺

• 作者: 宾月景 岳宏达 潘龙法 陈垦
• 来源期刊: 信息记录材料
• 学科: 工学
• 关键词: 染料旋涂 光密度 曲线模型 工艺参数
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 3-6,28
• 页数: 5页
• 分类号: TQ610.1
• 字数: 3295字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-5624.2003.01.001

摘要

染料旋涂是CD -R复制中的核心工艺,旋涂的结果影响最终的盘片质量.光密度曲线代表了旋涂结果.利用光密度曲线模型分析旋涂工艺中的许多重要参数,从而控制盘片质量.利用专用仪器测试出旋涂后盘片的光密度曲线,并对曲线进行分段性拟合.新曲线具有4个特征点和3个特征线段,利用这些特征进行工艺分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	潘龙法	清华大学光盘国家工程研究中心	52	490	10.0	21.0
2	岳宏达	清华大学光盘国家工程研究中心	9	18	2.0	4.0
3	宾月景	清华大学光盘国家工程研究中心	6	76	2.0	6.0
4	陈垦	清华大学光盘国家工程研究中心	9	6	2.0	2.0