电化学沉积纳米多层膜研究

• 作者: 冯继军 廖兆曙 彭喜英 陶景光
• 来源期刊: 武汉科技学院学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电沉积 纳米多层膜 巨磁阻效应(GMR)
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 理论与应用研究
• 页码范围: 32-35
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 2302字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-5160.2003.01.008

摘要

用电化学沉积法和自制的微机数控电化学电源,在半导体硅片等衬底上成功制备出Cu/Co等组分调制多层膜,利用EPMA、SEM、STM(AFM)、TEM多种方法表征其微结构.电化学沉积实验表明,在较高过电压、较低电流密度和较低PH(≈ 1.8)等条件下,能获得GMR≥8%的纳米多层膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陶景光		8	55	4.0	7.0
2	冯继军		4	27	2.0	4.0
3	廖兆曙		19	105	7.0	10.0
4	彭喜英		4	37	3.0	4.0