半导体激光与氟化钠治疗牙本质过敏症的对比研究

• 作者: 张福船 武宏 熊世江 王青
• 来源期刊: 中国医学物理学杂志
• 关键词: 激光 牙本质过敏症 牙本质 氟化钠
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 激光医学
• 页码范围: 21-22
• 页数: 2页
• 分类号: R781.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-202X.2003.01.007

摘要

目的:观察半导体激光与氟化钠对牙本质过敏症的临床疗效,及优缺点进行比较,探讨其作用机理;方法:牙本质过敏惠牙408颗随机分成两组,一组用常规氟化钠脱敏,一组用半导体激光治疗.激光组采用MDC-500型半导体激光治疗仪,波长830 nm,输出功率0mW～500mW连续可调,光斑直径3mm.先用探针确定过敏位置及范围,再用已消毒的激光治疗仪导光棒直接接触照射患牙敏感区,输出功率200～300mW,每次3分钟,3～5次为一疗程.若敏感区较大,可多点照射直至全部覆盖;结果:用半导体激光治疗的患牙,一次照射疼痛缓解率为100%,一疗程后总显效率为89.2%;氟化钠治疗组,即刻疼痛缓解率为75%,两者有显著性差异(P＜0.01)结论:半导体激光对牙本质过敏症有很好的疗效,优于氟化钠治疗.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	武宏	山东大学物理学院	23	60	5.0	7.0
2	熊世江	山东大学口腔医院	38	182	9.0	11.0
3	王青	山东大学口腔医院	166	798	14.0	19.0
4	张福船		3	4	1.0	2.0