半导体制造中的电子显微分析

• 来源期刊: 集成电路应用
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束 扫描电子显微镜 纳米 半导体制造 高分辨率 二次电子 电子显微分析 集成电路 透射电子显微镜
• 年，卷（期）: 2003,（2）
• 页码范围: 44-45,49
• 页数: 3页
• 分类号: TN305
• 语种: 中文

摘要

集成电路的特征尺寸越来越小,电子显微分析在微电子制造中成为不可缺少、不可替代的重要分析手段.该文根据扫描电子显微镜(SEM)及透射电子显微镜(TEM)在实际分析中的特长与局限,主要就仪器分辨率与结果的精确度的问题,讨论如何将两种分析技术有机地结合起来,扬长避短,取得最佳效果.