基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
利用金属有机化合物气相淀积(MOCVD)技术生长了InGaAs/GaAs分别限制应变单量子阱激光器工作物质.利用它制成半导体激光器线阵列,其峰值波长为900nm,光谱半高全宽小于4nm,在脉宽1000μs、13Hz的输入电流抽运下,输出峰值功率接近60W(室温,电流87A),斜率效率为0.64W/A.
推荐文章
半导体激光器恒功率控制技术
半导体激光器
恒功率控制
阈值电流
控制电路
980 nm半导体激光器的模场分布
半导体激光器
模场分布
高斯光束
发散
低功率980 nm波长半导体激光器驱动电路设计
980 nm波长泵浦源
恒流源
温度控制器
单片机控制器
高功率半导体激光器在金属材料加工中的应用
高功率半导体激光器
焊接
淬火
激光熔覆
材料表面硬化
金属材料加工
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 900nm高功率半导体激光器线阵列
来源期刊 激光与光电子学进展 学科 工学
关键词 金属有机化合物气相淀积(MOCVD) 半导体激光器阵列 分别限制结构 单量子阱
年,卷(期) 2003,(3) 所属期刊栏目 光电子器件与技术
研究方向 页码范围 43-44
页数 2页 分类号 TN3
字数 963字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈国鹰 河北工业大学信息学院微电子所 62 307 9.0 12.0
2 花吉珍 中国电子科技集团公司第十三研究所 18 74 5.0 7.0
3 冯荣珠 中国电子科技集团公司第十三研究所 5 22 3.0 4.0
4 辛国锋 河北工业大学信息学院微电子所 9 47 5.0 6.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (2)
节点文献
引证文献  (2)
同被引文献  (4)
二级引证文献  (7)
1992(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1999(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2003(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2010(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2014(3)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(2)
2015(1)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(1)
2018(2)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(2)
2019(2)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(2)
研究主题发展历程
节点文献
金属有机化合物气相淀积(MOCVD)
半导体激光器阵列
分别限制结构
单量子阱
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
激光与光电子学进展
半月刊
1006-4125
31-1690/TN
大16开
上海市嘉定区清河路390号(上海市800-211信箱)
4-179
1964
chi
出版文献量(篇)
9127
总下载数(次)
28
  • 期刊分类
  • 期刊(年)
  • 期刊(期)
  • 期刊推荐
论文1v1指导