激光微细加工中微小曝光区温度测量系统的改进

• 作者: 叶玉堂 吴云峰 杨先明 秦宇伟 谢兴盛
• 来源期刊: 计量与测试技术
• 关键词: 半导体 激光微细加工 温度测量 计算机控制
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 计测技术
• 页码范围: 6-8
• 页数: 3页
• 字数: 2937字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-6941.2003.04.004

摘要

在半导体的激光微细加工技术里,需要对微小曝光区域的温度分布进行不接触测量.文献[6]报道的温度测量系统基本满足这一要求,但在实际使用过程中还存在一些需要克服的困难.首先是温度分辨率和温度测量范围不能同时满足使用要求,其次是不能进行温度分布的准确测量和最高温度点的准确定位.本文提出了对原有系统的改进方法,改进后的计算机温度测量系统较好的解决了原系统存在的这些问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴云峰		106	653	13.0	18.0
2	叶玉堂		170	1471	17.0	30.0
3	杨先明		16	114	7.0	10.0
4	秦宇伟		9	30	3.0	5.0
5	谢兴盛	电子科技大学光电信息学院	8	51	2.0	7.0