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纳米管形成与内应力
纳米管形成与内应力
作者:
程开甲
程漱玉
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
TFDC
内应力
纳米管
摘要:
依据TFDC(Thomas-Fermi-Dirac-Cheng)电子理论的内应力机理预测和阐述了几个重要的实验现象:镀在基底上的膜层中具有很大的内应力;将基底腐蚀掉后,所镀的纳米级复合膜层可以卷曲形成纳米管;在基底上注入电子密度不同的材料可改变膜中的内应力.
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文献信息
篇名
纳米管形成与内应力
来源期刊
自然科学进展
学科
工学
关键词
TFDC
内应力
纳米管
年,卷(期)
2003,(1)
所属期刊栏目
研究简讯
研究方向
页码范围
95-98
页数
4页
分类号
TB383
字数
2816字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1002-008X.2003.01.018
五维指标
作者信息
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姓名
单位
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G指数
1
程开甲
13
64
5.0
7.0
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程漱玉
9
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5.0
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节点文献
TFDC
内应力
纳米管
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
自然科学进展
主办单位:
国家自然科学基金委员会
中国科学院
出版周期:
月刊
ISSN:
1002-008X
CN:
11-3852/N
开本:
大16开
出版地:
北京市
邮发代号:
80-215
创刊时间:
1991
语种:
chi
出版文献量(篇)
2485
总下载数(次)
2
总被引数(次)
47950
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