高斯场下形体影响因子的动态特征以及微扰方程的修正

• 作者: 吴大建 王亚伟
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学测量 微粒形体 数学修正 光散射
• 年，卷（期）: 2003,（10）
• 所属期刊栏目: 光学测量
• 页码范围: 1261-1265
• 页数: 5页
• 分类号: O436.2
• 字数: 2963字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2003.10.023

摘要

为解决微粒形体变化对微粒测量结果的影响,在半椭圆模型理论模型的基础上,对高斯分布散射场下任意形体微粒散射的影响因子进行了讨论.建立了影响因子与形体特征参量和微粒粒度之间的数学关系,并求得了其影响因子数值解的分布.基于对影响因子数值解分布动态特征的讨论,拟合得到了高斯分布散射场下任意形体微粒影响因子函数解的解析式,由此提出了对任意形体微粒特征分布概率函数微扰方程的修正.研究结果表明,该方法对于大粒度微粒形体变化对测量结果影响的修正效果尤佳.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王亚伟	江苏大学理学院	67	312	11.0	15.0
2	吴大建	江苏大学理学院	11	96	6.0	9.0