ODC在软件过程度量与分析中的应用

• 作者: 刘美红 周光 孙蔚
• 来源期刊: 计算机工程与应用
• 学科: 工学
• 关键词: ODC 缺陷数据分析 过程度量 软件过程改进
• 年，卷（期）: 2003,（23）
• 所属期刊栏目: 学术探讨
• 页码范围: 98-101
• 页数: 4页
• 分类号: TP311
• 字数: 5884字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-8331.2003.23.032

摘要

正交缺陷分类(ODC)是软件过程度量与分析中的一种新技术.文章介绍了ODC的概念、发展过程、总体结构以及各种ODC缺陷属性的含义,阐述了如何使用ODC来度量开发过程和识别过程中的问题.最后,文章对ODC的应用和实施进行了总结与分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘美红	北京航空航天大学计算机科学与工程系	6	52	4.0	6.0
2	孙蔚	北京航空航天大学计算机科学与工程系	5	41	4.0	5.0
3	周光	北京航空航天大学计算机科学与工程系	3	27	2.0	3.0