施硅提高水稻叶片对紫外线胁迫的抗性

• 作者: 史新慧 张福锁 李文彬 王贺
• 来源期刊: 植物学报
• 学科: 生物学
• 关键词: 水稻 紫外线 酚类化合物 硅
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 发育与分子生物学
• 页码范围: 691-697
• 页数: 7页
• 分类号: Q945.7
• 字数: 486字
• 语种: 英文
• DOI: 10.3321/j.issn:1672-9072.2004.06.007

摘要

采用加硅与缺硅营养液培养的方法,首次研究证明硅能提高水稻(Oryza sativa L.)叶片抗紫外线胁迫的能力.结果表明,在紫外胁迫条件下,缺硅水稻叶片表面出现明显的棕色伤害斑点,而加硅叶片未出现伤害症状.硅在水稻表皮细胞壁及细胞内部的积累明显促进了紫外吸收物质在表皮细胞中的聚集,使表皮中可溶性酚类物质含量提高17%,不溶性紫外吸收物质的含量增加65%左右.荧光显微镜观察表明,在表皮细胞外壁或胞内沉积的水合二氧化硅固体中包含着大量不溶性的酚类化合物,它们与可溶性酚类物质一起在叶片的上、下表皮细胞中形成了吸收紫外线的屏障.