粒子轰击对碳纳米管微结构和场发射性能的影响

• 作者: 于伟东 冯涛 张继华 柳襄怀 王曦
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 碳纳米管 场发射 微结构
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 163-167
• 页数: 5页
• 分类号: TN873.95
• 字数: 2729字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2004.03.002

摘要

研究了粒子轰击对碳纳米管膜微结构和场电子发射性能的影响.研究结果表明,采用多种等离子体处理碳纳米管能改变其微结构,并显著提高场发射点密度,从而改善场发射性能.随着粒子轰击时间的延长,发射电流先降低,然后又增加甚至超过原始碳纳米管膜的发射电流.我们认为发射性能的变化归功于不同的发射机理:粒子轰击处理后,电子由纳米管尖端发射逐渐变为主要从管体上的纳米瘤发射,致使发射点密度显著增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张继华		1	12	1.0	1.0
2	冯涛		1	12	1.0	1.0
3	于伟东		1	12	1.0	1.0
4	王曦		1	12	1.0	1.0
5	柳襄怀		1	12	1.0	1.0