用机械破碎方法提高印刷碳纳米管薄膜的场发射性能

• 作者: 刘兴辉 刘卫华 曾凡光 朱长纯
• 来源期刊: 西安交通大学学报
• 关键词: 丝网印刷 碳纳米管薄膜 场发射 后处理方法 场发射显示器
• 年，卷（期）: 2005,（8）
• 页码范围: 863-866
• 页数: 4页
• 分类号: N27|O462.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-987X.2005.08.020

摘要

提出了一种可显著改善丝网印刷碳纳米管(CNTs)薄膜场发射特性的后处理方法,用机械压力通过隔离层对附着于CNTs表面的无机物进行原位破碎,并用高速气流清洁薄膜表面.同其他方法相比,机械破碎方法既不会在处理后的阴极表面留下残留物,也不会使薄膜受损.场发射特性测试表明,与未处理薄膜相比,经过处理的CNTs薄膜的开启场强从2.7 V/μm降低到1.7 V/μm,同样面积的薄膜(印刷面积为40 mm×40 mm)在4.2 V/μm场强下的发射电流由70 μA提高到了950 μA,说明机械破碎处理对于提高薄膜的场发射特性有明显作用.该方法在碳纳米管场发射显示器的制作中具有很好的实际应用价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱长纯	西安交通大学电子与信息工程学院	215	2372	22.0	41.0
2	刘卫华	西安交通大学电子与信息工程学院	33	304	9.0	16.0
3	曾凡光	西安交通大学电子与信息工程学院	9	49	5.0	6.0
4	刘兴辉	西安交通大学电子与信息工程学院	12	88	5.0	9.0