工艺参数对新型AgInSbTe相变薄膜反射率的影响

• 作者: 刘音诗 干福熹 张广军 李青会 顾冬红
• 来源期刊: 激光与红外
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 新型AgInSbTe相变薄膜 反射率 蓝光
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 光电技术
• 页码范围: 382-385
• 页数: 4页
• 分类号: TQ577.7
• 字数: 2745字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5078.2004.05.019

摘要

利用磁控溅射法制备了一种新型AgInSbTe相变薄膜.分析了溅射气压和溅射功率对非晶态和晶态相变薄膜反射率的影响,结果表明不同溅射气压、功率下制备的相变薄膜的反射率具有明显差异,阐述了引起相变薄膜反射率变化的原因,并研究了蓝光(405nm)波长处相变薄膜反射率随溅射气压和溅射功率的变化规律.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	干福熹	中国科学院上海光学精密机械研究所	288	2527	23.0	29.0
2	李青会	中国科学院上海光学精密机械研究所	64	410	12.0	16.0
3	顾冬红	中国科学院上海光学精密机械研究所	65	551	12.0	19.0
4	张广军	中国科学院上海光学精密机械研究所	6	17	3.0	3.0
5	刘音诗		3	6	1.0	2.0