LICVD法纳米硅粉的制备及激光能量阈值研究

• 作者: 吕红霞 范素芹
• 来源期刊: 河北科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 激光诱导化学沉积法 能量阈值 微结构 影响机制
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 页码范围: 38-40,61
• 页数: 4页
• 分类号: TG156
• 字数: 2443字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-1542.2004.03.011

摘要

利用自制的LICVD法纳米粉设备对在不同反应气体流量和SiH4含量条件下的激光能量阈值进行了研究,对由该方法在不同反应气体流速条件下制备的纳米硅颗粒进行了微结构表征,同时就反应气体流量对纳米硅颗粒的微结构影响机制进行了探讨.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	范素芹		13	33	3.0	5.0
2	吕红霞		7	51	3.0	7.0