微波等离子体技术在ICF制靶中的应用

• 作者: 吴卫东 唐永建 张继成
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 微波等离子体 薄膜制备 离子束刻蚀 掺杂纳米金属粉末 表面包覆改性
• 年，卷（期）: 2004,（8）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 1025-1028
• 页数: 4页
• 分类号: TL639
• 字数: 2422字
• 语种: 中文

摘要

为了提高ICF精密制靶的质量,提出用微波等离子体(MP)技术,包括等离子体薄膜制备、等离子体反应性离子束刻蚀、聚焦离子束刻蚀、掺杂纳米金属粉末制备和掺杂纳米金属粉末的表面包覆改性等技术,去加以改进和解决.此方法与其它成膜技术相结合,在ICF精密制靶中得到广泛应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐永建	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	281	2334	24.0	31.0
2	吴卫东	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	140	1087	18.0	26.0
3	张继成	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	29	254	9.0	15.0