碳化硅与LAS(Li2O-Al2O3-SiO2)界面化学稳定性研究

• 作者: 曹涯路 杨光义 潘颐 王利
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 化学
• 关键词: 碳化硅 LAS(Li2O-Al2O3-SiO2) 界面热力学 化学稳定性
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 881-885
• 页数: 5页
• 分类号: TQ174.75+8.12|O64
• 字数: 4508字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2004.06.027

摘要

借助最新最权威基本的热力学数据,按化学平衡理论,分析SiC和LAS(Li2O-Al2O3-SiO2)之间可能发生的化学反应,定量计算在SiC中不同C活度,不同温度下SiC和LAS间诸反应各气相产物的分压和分压总和,精确分析SiC和LAS界面的热力学稳定性,提供在一个大气压惰性气体环境下,SiC和LAS界面的热力学失稳判据,为SiC材料研究者提供可靠的参考资料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	潘颐	浙江大学材料与化工学院	32	408	12.0	19.0
2	王利	浙江大学材料与化工学院	14	105	7.0	9.0
3	曹涯路	浙江大学材料与化工学院	4	31	3.0	4.0
4	杨光义	浙江大学材料与化工学院	8	66	5.0	8.0