不同阳极电位下铝青铜的电化学阻抗谱研究

• 作者: 于辉 孙明先 徐海波 董飒英
• 来源期刊: 电化学
• 学科: 工学
• 关键词: 铝青铜 电化学阻抗谱 氯化络合物 点蚀
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 35-40
• 页数: 6页
• 分类号: TG172
• 字数: 2634字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3471.2004.01.008

摘要

应用电化学阻抗谱(EIS)方法研究了铝青铜的腐蚀溶解机制.结果表明,在活性溶解区,铝青铜以氯化络合物的形式溶解,并且CuCl2的扩散是该溶解过程的控制步骤;而在过渡区,铝青铜的EIS谱出现第2个容抗弧,这是由于CuCl络合物和氧化腐蚀产物在电极表面沉积成膜所致;在极限电流区,腐蚀产物膜产生破损点,导致电极表面快速溶解,产生严重的点蚀,这就是在该区域极化电位下EIS出现感抗弧的原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董飒英	七二五研究所青岛分部	5	44	3.0	5.0
2	于辉	七二五研究所青岛分部	7	71	5.0	7.0
3	徐海波	七二五研究所青岛分部	1	11	1.0	1.0
4	孙明先	七二五研究所青岛分部	3	39	2.0	3.0